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硅/鍺鏡片

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志辰光學(xué)采用光學(xué)級硅,其電阻率比大多數(shù)半導(dǎo)體應(yīng)用高 10-40 Ohm-cm。鍺是成像系統(tǒng)中用于生產(chǎn)球面透鏡和高效紅外窗口的較常用材料。
產(chǎn)品詳情

志辰光學(xué)采用光學(xué)級硅,其電阻率比大多數(shù)半導(dǎo)體應(yīng)用高 10-40 Ohm-cm。對于 CZ 級硅(Czochralski 方法)在 9μm 處有吸收帶,如果應(yīng)用使用 3 到 5μm 的熱帶范圍,這是可以接受的。另一方面,浮區(qū)硅不具有這種吸收特性。

硅透鏡通常用于 2-7μm 范圍內(nèi),是 IR LED 應(yīng)用的理想元件,高導(dǎo)熱性和低重量被認(rèn)為是 boeth IR 和 FTIR 系統(tǒng)的關(guān)鍵特性,整個范圍內(nèi)的折射率為 3.4,硅窗可用作激光和紅外視口的高反射率反射鏡。

硅鏡片

商業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

工廠標(biāo)準(zhǔn)

超精密標(biāo)準(zhǔn)

直徑公差(mm)

+0 / -0.02

+0 / -0.10

+0 / -0.10

中心厚度(mm)

±0.20

±0.15

±0.10

半徑(%)

±2%

±1.5%

±1%

焦距公差(%)

<2%

<1%

<0.5%

光潔度

80-50

60-40

40-20

以 λ 為單位的圖容差(Pow/irreg)


5 - 2

2 - 1/2

1 - 1/4

涂層

<1.5%@3-5um

材料

光學(xué)級硅

在 2-12 μm 范圍內(nèi),鍺是成像系統(tǒng)中用于生產(chǎn)球面透鏡和高效紅外窗口的較常用材料。鍺具有高折射率(約 4.0 通過 2-14μm 波段),在低功率成像系統(tǒng)中由于其低色差,通常不需要修改

鍺光學(xué)性能 受溫度影響嚴(yán)重;透過率隨著溫度的升高而降低,大多數(shù)涉及鍺元素的應(yīng)用只能在100攝氏度以下應(yīng)用。設(shè)計人員還需要注意具有鍺密度 (5.33 g/cm3) 的系統(tǒng)設(shè)計中的某些重量限制。鍺主要用于熱成像系統(tǒng)和紅外(FLIR)領(lǐng)域。

鍺鏡片

商業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

工廠標(biāo)準(zhǔn)

超精密標(biāo)準(zhǔn)

直徑公差(mm)

+0 / -0.05

+0 / -0.03

+0 / -0.025

中心厚度(mm)

±0.01

±0.03

±0.025

半徑(%)

±1%

±0.5%

±0.5%

焦距公差(%)

6

<3

<1

光潔度

100-80

40-20

10-5

以 λ 為單位的圖容差(Pow/irreg)


5 - 2

2 - 1

1 - 1/4

涂層

96% @ 3 - 5um / 7 - 14um. 95% @ 4 - 12um

材料

光學(xué)級鍺

硅/鍺鏡片硅/鍺鏡片
硅/鍺鏡片
硅/鍺鏡片

硅/鍺鏡片

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志辰光學(xué)采用光學(xué)級硅,其電阻率比大多數(shù)半導(dǎo)體應(yīng)用高 10-40 Ohm-cm。鍺是成像系統(tǒng)中用于生產(chǎn)球面透鏡和高效紅外窗口的較常用材料。
15927233960
產(chǎn)品詳情

志辰光學(xué)采用光學(xué)級硅,其電阻率比大多數(shù)半導(dǎo)體應(yīng)用高 10-40 Ohm-cm。對于 CZ 級硅(Czochralski 方法)在 9μm 處有吸收帶,如果應(yīng)用使用 3 到 5μm 的熱帶范圍,這是可以接受的。另一方面,浮區(qū)硅不具有這種吸收特性。

硅透鏡通常用于 2-7μm 范圍內(nèi),是 IR LED 應(yīng)用的理想元件,高導(dǎo)熱性和低重量被認(rèn)為是 boeth IR 和 FTIR 系統(tǒng)的關(guān)鍵特性,整個范圍內(nèi)的折射率為 3.4,硅窗可用作激光和紅外視口的高反射率反射鏡。

硅鏡片

商業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

工廠標(biāo)準(zhǔn)

超精密標(biāo)準(zhǔn)

直徑公差(mm)

+0 / -0.02

+0 / -0.10

+0 / -0.10

中心厚度(mm)

±0.20

±0.15

±0.10

半徑(%)

±2%

±1.5%

±1%

焦距公差(%)

<2%

<1%

<0.5%

光潔度

80-50

60-40

40-20

以 λ 為單位的圖容差(Pow/irreg)


5 - 2

2 - 1/2

1 - 1/4

涂層

<1.5%@3-5um

材料

光學(xué)級硅

在 2-12 μm 范圍內(nèi),鍺是成像系統(tǒng)中用于生產(chǎn)球面透鏡和高效紅外窗口的較常用材料。鍺具有高折射率(約 4.0 通過 2-14μm 波段),在低功率成像系統(tǒng)中由于其低色差,通常不需要修改

鍺光學(xué)性能 受溫度影響嚴(yán)重;透過率隨著溫度的升高而降低,大多數(shù)涉及鍺元素的應(yīng)用只能在100攝氏度以下應(yīng)用。設(shè)計人員還需要注意具有鍺密度 (5.33 g/cm3) 的系統(tǒng)設(shè)計中的某些重量限制。鍺主要用于熱成像系統(tǒng)和紅外(FLIR)領(lǐng)域。

鍺鏡片

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直徑公差(mm)

+0 / -0.05

+0 / -0.03

+0 / -0.025

中心厚度(mm)

±0.01

±0.03

±0.025

半徑(%)

±1%

±0.5%

±0.5%

焦距公差(%)

6

<3

<1

光潔度

100-80

40-20

10-5

以 λ 為單位的圖容差(Pow/irreg)


5 - 2

2 - 1

1 - 1/4

涂層

96% @ 3 - 5um / 7 - 14um. 95% @ 4 - 12um

材料

光學(xué)級鍺

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